是否提供加工定制 | 是 | 品Pai | 其他品Pai |
型号 | K575X/K575D | 类型 | 多元素分析仪器 |
测试范围 | 1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar | 测量时间 | 0-20nm/分 |
电源电压 | 230/50(V\HZ) | 适用范围 | 应用范围广,除了可选溅射常用金属靶材如:金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外,还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO(氧化铟锡)靶等特 |
主要特点● 全自动控制● Peltier冷却溅射头● 精细镀层(0.5nm Cr粒子)● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置● 薄膜沉积(典型为5nm)● 直径为165mm腔室● 可选双溅射头● 可接膜厚测控仪仪器介绍K575X使用“涡轮”泵,前级为旋转机械泵,整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。K575D(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。注:K575D技术规格与K575X相同,但它有双头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575D(双头)单元。优点● 可溅射易氧化金属精细颗粒,如:铬(Cr)或铱(Ir)● 应用范围广,除了可选溅射常用金属靶材如:金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外,还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO(氧化铟锡)靶等特殊靶材● 易操作● 无需水冷却● 超高分辨率,可复制涂层● 适应各种样品● 重复膜厚沉积● 样品容易装载和卸载● 不需要打开真空即可进行顺序涂层● 沉积厚度可预设