GH-100J GX等离子表面处理设备

GX等离子表面处理设备原理：

等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。
在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面．以达到清洗目的．
等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

GX等离子表面处理设备优势

一、清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一

道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率；

二、等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法

清洗中容易洗坏清洗对象的问题；

三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此

这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。这在高度关注环保的情况下越发

显出它的重要性；