拟进行采购的高纯金属溅镀仪，主要用于各种金属及其合金薄膜材料的原子级镀膜工艺。设备应满足本底真空优于5E-8Torr的高真空配置，具有样品加热温度800℃的工艺能力，可实现1mTorr低压力下工作运行，工作压力控制精度不高于读数的±0.5%。以实际公告为准。