供应瑞泽大流量高纯度氩气纯化装置本设备具有体积小,操作简便,能耗小,安全可靠的特点。无需频繁再生及再生无须加氢的特点。设备中全部容器、管道、阀门均为不锈钢材质。设备中的主要控制仪表全部采用国内外先进产品
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供应瑞泽大流量高纯度氩气纯化装置
产品特点技术参数:
1、处理气量:5 m3/h~300 m3/h
2、工作压力:小于等于0.8MPa
3、氩气来源:液氩.
4、电 源: 380V 50HZ
5、净化效能:
气体 | 纯度(%) | H2 (ppm) | O2 (ppm) | CO (ppm) | CO2 (ppm) | CH4 (ppm) | 露点 (H2O) |
原氩 | 99.9 | <100 | <15 | <5 | <5 | <5 | -65℃ |
精氩 | 99.9999 | ≤0.2 | ≤0.3 | ≤0.2 | ≤0.2 | ≤0.2 | -80℃ |
可以净化的气体有氩气、氮气、氢气、氦气等惰性气体
设备说明
产品优势1.净化则采用了世界进的净化材料。其特点有吸附深度好,吸收杂质气体量大的特点,纯度可达99.9999%以上。
2.并在安装了小于1μ的金属过滤器。保证了气体粉末的要求。
3.本装置的阀门采用国内外专业阀门公司的优质产品,保证了产品的高纯度无渗透及安全可靠性。
4.设备中全部容器、管道、阀门均为不锈钢材质。
5.设备中的主要控制仪表全部采用国内外先进产品。
6.接头采用先进的高纯接头,保证了无渗透。
7.外观设计采用国际流行颜色及形式,使产品更美观。
8.设备可根据客户要求在线加装微氧分析仪和微量水分析仪使净化后气体得到监测。避免了因设备问题的损失。
9.本设备在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等的配套使用设备,得到了广泛的应用。
10.可根据用户的要求对设备进行再设计,如加装水分仪和全自动设备(价格另议)。
11.本设备具有体积小,操作简便,能耗小,安全可靠的特点。无需频繁再生及再生无须加氢的特点。
一、 概述
氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体,为了提高硅晶体的质量,如何选用较高纯度的氩气,是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用,氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时,水分也小于1ppm时,制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求,赢得客户的满意和市场的需求。
由于一般液氩汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,使用氩气的客户不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过纯化装置的处理后,进入拉晶炉的氩气,纯度始终是恒定的。
一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。
二、 关于氩气纯化的方法
一种.直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应,消化掉氩气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气中的水份,使氩气的含水量小于1ppm。
二种
是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,氩气的纯度可达到6个九,这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。
利用吸气剂纯化后氩气的纯度:
O2≤0.2ppm
H2≤0.5ppm
N2≤1ppm
CO+CO2≤0.5ppm
CH4≤0.5ppm
水份≤1ppm
一种方法设备投资小,设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。
二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大,吸气剂使用寿命为两年。
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