发射光谱分析:(OES:Optical Emission Spectroscopy)
所谓发射光谱分析是指使用放电等离子体蒸发气化来激发样品中的目标元素,根据得到的元素固有的亮线光谱(原子光谱)的波长进行定性,并根据发光强度进行定量的分析方法。
广义上讲,激发放电(光源)还包括使用ICP(Inductivelycoupled plasma 电感耦合等离子体)作为激发放电(光源)的ICP发射光谱分析。但发射光谱分析(发光分析)或光电测光式发射光谱分析,是指使用火花放电/直流电弧放电/辉光放电作为激发放电的发射光谱分析。发射光谱分析中,在固体金属样品和与电极之间发生放电。
岛津的发射光谱分析装置是在氩气氛围中进行火花放电,对火花脉冲的发光进行统计处理,采用可提高测定重现性(精度)的方式(PDA测光方式:Pulse Distribution Analysis)。
发射光谱分析装置可快速测定固体金属样品的元素组成,是在炼铁、铝冶炼工艺管理用中必不可少的手段。
波长范围:120~589nm
衍射光栅:凹面光栅曲率半径:600mm
通道数:Z多64个通道
测光方式:PDA测光法,脉冲分布测光法
高分辨率的分光器稳定性高、实绩。其聚光系统采用先进的光学设计,实现高灵敏度、高稳定性的测定。可YZ磷(P)、硫(S)的干涉影响,从而进行正确地分析。
具有对电极和样品间产生的激发能进行实时监控功能。 瞬间判断样品表面的瑕疵等造成的不良放电,从测定数据中删除,从而提高精度。 大幅度省电节能。
人性化的操作界面,实现分光器的真空度和光源等装置的细节部分实时监控,轻松提示维护保养时的管理步骤,从控制、判断到管理高枕无忧。