德国Anseros公司开发的HOXON硅晶体清洗机
是半导体工业的新模范。HOXON系统是基于完全生态环保和保证人身安全的绿色科技。我们坚信并遵循着大自然的法则,调整HOXON科技以迎合表面清洁应用的需求。我们在成功建立HOXON系统,助力于半导体工业这项事业上,拥有超过二十五年的悠久历史。只要您说出问题,我们已经为您准备了解决方案。我们欢迎您可以与我们的研发人员展开友好的探讨:我们可以为您做些什么。

应用领域
晶片清洗,UCT-工艺、无机氧化、光阻材料的去除、去离子水的消毒、原位生物膜的去除、化学气相沉积的应用、废水处理、无菌恒温区域。
技术参数
完全非金属的系统;
气相臭氧容量高达270克/立方米;
液相臭氧容量高达100克/立方米;
AOP(高级氧化)清洁。
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PAP-SC-200臭氧清洁系统 | COM-AD-08臭氧发生器 | FM-PRO臭氧分析仪 |
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可移动型臭氧水系统PAP | 臭氧破坏机CAT-HO-8000 | CAT-HO-8000水相臭氧破坏机 |
代理资质