LW200Z-4LJT在观察时成像为正像,这对使用者的观察与辨别带来了极大的方便,除了对20-30mm高度的金属试样作分析鉴定外,由于符合人的日常习惯,因此更广泛的应用于透明,半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标,比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹,都能有很好的成像效果。
LW200Z-4LJT在观察时成像为正像,这对使用者的观察与辨别带来了极大的方便,除了对20-30mm高度的金属试样作分析鉴定外,由于符合人的日常习惯,因此更广泛的应用于透明,半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标,比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹,都能有很好的成像效果。
二、技术指标
- 镜筒:T三目,30度倾斜,360度旋转,镜筒辅助倍数1.25X
- 高眼点目镜:PLAN10XΦ20mm
- 长工作距离平场物镜:PL4X,PL10X,PLL40X(S),PL100X(oil)(S)
- 转换器:四孔
- 总放大倍数:50X-1250X
- 载物台:尺寸160mmX140mm ,移动范围75mmX50mm
- 聚焦镜:可调式阿贝聚焦镜NA1.25,孔径光阑,滤色片座
- 焦光镜:高亮点固定式照明与柯勒照明柯互陪
- 调焦:粗微动同轴,升降范围20mm,微动格值0.002mm ,带锁紧和限位装置
- 光源:透反射柯勒照明,透射照明卤素灯12V20W,反射照明卤素灯12V50W,亮度可调
正交偏振装置