德国Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系统
科研/生产兼用
简介:
PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统,但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似,涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术,在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅(六角形和正方形),且曝光结果非常均匀,质量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常轻松地获得微米尺寸的图形。
特点: · GX的大面积亚微米-纳米图形化设备 · 操作简单、工作稳定,兼容科研及批量生产 · 纳米周期性图案解决方案 优势: · 大面积图形化设备:适用4、6、8寸衬底 · 高曝光效率:非步进式曝光,无拼接,单次全场曝光实现整片图形化 · 高精度:光学衍射自成像原理,突破传统曝光精度极限 · 非接触式曝光 · 设备没有景深限制,曝光过程无需对焦 · 双工作模式(UV375机型):高分辨模式(周期性纳米-微米结构),一般紫外光刻模式(非周期结构) · 设备采用通用的商业光刻胶,根据客户的图形,提供工艺技术支持。 |
PhableR 100革新性紫外光刻 |
技术指标:
光源 | UV375nm | DUV266nm | DUV193nm |
分辨率 | 125nm | 75nm | 62nm |
周期范围 | 250-3000nm | 150-2500nm | 125-2000nm |
操作方式 | 手动装片-自动曝光 |
参数设置 | 触摸屏 |
基片尺寸 | 4、6、8英寸(尺寸向下兼容) |
PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具
应用:
· 图形化蓝宝石衬底(PSS)
· DFB布拉格光栅
· 减反层图形
· 显示滤光片Color Filter
· 线栅偏振Wire Grid Polarizer(WGP)
· 光子晶体
· 磁性纳米结构
· 太阳能光伏
· 生物传感器
· AR、VR技术