气氛炉 1200℃高温箱式气氛炉

1200℃高温箱式气氛炉采用双层壳体结构和PID程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用外壳整体密封、盖板密封采用耐温硅胶、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进出气口，可以预抽真空并能通氩气、氮气、氧气、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

1200℃高温箱式气氛炉

应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空或气氛条件下的热处理工艺。也用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品的预烧、烧结、钎焊等工艺。
产品参数：

• 产品型号：HS-1200Q
• 炉膛结构:卧式
• 开门方式：侧开
• 工作温度：≤1100℃
• 温度：1200℃
• 炉膛尺寸：200mm*200*200(可定制)
• 加热元件：合金加热丝
• 温控方式：智能化30段PID微电脑可编程控制
• 温控保护：具有超温及断偶报警功能
• 热电偶：K型
• 炉膛材质：高纯氧化铝多晶纤维
• 加热速率：0-20℃/分
• 恒温精度：±1℃
• 均匀性：±5℃
• 炉壳结构：双层壳体带风冷系统
• 额定功率：4Kw
• 供电电源：110-480V 50/60Hz
• 售后服务：12个月质保，终身保修(易损件除外)