1200℃开启式管式炉PECVD系统功能特点:
在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使气体分子活化。它们吸附在衬底上,并发生化学反应生成介质膜,副产物从衬底上解吸,随主气流由真空泵抽走,称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)
1200℃开启式管式炉PECVD系统
产品用途:
PECVD开启式管式炉系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择。
适用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用
产品参数
- 控温方式:采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。
- 加热元件:0Cr27Al7Mo2
- 工作电源:AC220V 50Hz/60Hz
- 额定功率:4kw
- 炉管材质:高纯石英管