美国安捷伦Agilent进口涡轮分子泵Turbo-V 3K-G(如 V 2K-G 一样)其叶片级数和泵的整体结构均经过优化,可以工作在高纯氩气氛围下和温度极高的环境中。此外,它还拥有内置的控制器件、一体化的放空和吹扫阀以及免维护的轴承。所有这些特点使 Agilent Turbo-V 3K-G 涡轮分子泵成为镀膜工业出色泵解决方案。
特性:
1,“一体化”系统
2,同类产品中抽速
3,无油、耐用、可靠
4,MTTF 超过 200000 小时
5,高级转子设计大幅度降低了重量和机械应力
6,拥有特制的转子轴配合技术可大大降低转子拉伸应力
7,采用了安捷伦 A-PLUS 软件(原 T-plus)
美国安捷伦Agilent进口涡轮分子泵应用范例:
安捷伦涡轮分子泵包括集成泵组和多流路泵,其设计旨在实际应用中达到高性能。泵的紧凑型设计满足工业中的严苛空间要求。涡旋分子泵几乎不需要维护,并可避免错误使用。无论您是终端用户还是原始设备制造商,安捷伦均可针对您的应用为您提供帮助和支持,或定制适合您的需求的系统。
领域 | 应用 | 详细说明 |
质谱和分析仪器 | - 针对质谱系统优化的全系列泵和控制器
- 具有多入口泵组的定制泵
- 低成本、易于使用、高分析性能
- 对于 GC/MS,提供用于相对低气体载荷环境的 1 个真空室和用于分析无机样品的中等真空接口
- 对于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系统
- 对于 ICP-MS,提供多种真空系统,包括用于氩气等重载气的泵和使用氦气的碰撞池
- 对于 TOF 系统,需要较小尺寸、高通量和GX的散热设备
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科研中的真空应用 | - 非常清洁、可靠和高性价比的 HV 和 UHV
- 粗真空轴承未暴露于 UHV,降低了污染
- 高速和高压缩
- 可以以任意角度安装
- 联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体
| - 高能物理
- 融合技术
- 一般 UHV 研究
- 同步光源粒子加速器
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工业真空加工 | - 为薄膜沉积应用而专门设计的集成分子泵解决方案
- 适用于原始设备制造商和终端用户的专业性能
- 适用于具有预真空锁或大型内联连续系统的单室批量系统和多室系统的泵
| 薄膜沉积: - 玻璃涂层设备(建筑和汽车玻璃,平板显示器)
- 薄膜太阳能电池生产(光电)
- 光学数据介质(CD、DVD、磁光光盘)
- 磁性存储介质
- 表面处理
- 光学涂层(眼科、精密光电)
- 膜或箔上的辊式/卷绕涂覆
设备加工: - 生产电视机和显示器显像管
- 疏散灯(高速公路照明、投影机)
- X 射线管和电子设备
一般工艺: |
纳米技术仪器 | - 分析从有机化合物到半导体晶片等各类物质
- 全系列的高真空和超高真空泵特别适用于要求严苛的 SEM、TEM 和表面分析系统
- 低振动涡旋泵适用于Z敏感的显微分析
- 可快速、无油式排空大型样品室内的气体
- 集成的泵控制器可灵活进行控制,几乎不生成电磁噪音
- 非常适合为半导体生产创造合适环境
- 高转速确保能够以高泵速抽空半导体生产中释放的轻质气体(He、H)
- 符合高速循环应用的严格要求,例如真空装载锁
- 通过对多个涡旋泵联用一个前级泵,可提高工具的可靠性
- 联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体
- 安装于支架上的控制器或一体式控制器允许将电子设备放置于远处
| - 电子显微镜(SEM、TEM)
- 聚焦离子束系统 (FIB)
- 表面分析
- 半导体制造
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技术规格:
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抽速: | N2:2200 L/s | He:1900 L/s | Ar:2050 L/s |
压缩比: | N2:> 1 × 107 | He:6 × 103 | Ar:1 × 108 |
极限真空*(使用推荐的前级泵) | < 1 × 10-8 mbar | | |
入口法兰 | ISO 250F | | |
前级管道法兰 | KF 40 NW | | |
额定转速 | 31800 rpm | | |
使用推荐前级泵,无气体负载的启动时间 | < 6 分钟 | | |
前级压力 | < 0.5 mbar | | |
推荐的Z小前级泵 | > 60 m3/h(取决于气体流速要求) | | |
工作位置 | 任意位置 | | |
冷却要求 | 水 | | |
重量 ISO (250) | 52 kg(114.63 磅) | | |