众所周知,如果想要通过XRF分析仪得到精确的测量结果,就必须对样品进行预处理,实验证明熔片法相比于压片法终的测量精度更高。
目前市场上使用的熔融炉非常笨重,非常依赖操作人员,并且很耗时。 每一次样品处理除了对硼酸和样品进行熔融以外,不能测量得到其他任何的数据信息,这种处理法就像是一种试验法。
NAWAS生产的熔融系统包含一个熔融炉,可以连接到PC或笔记本电脑。2个天平:位于炉子下方的天平用于LOI计算,外部天平用于测量坩埚,样品和通量重量,控制样品加载量。
NAWAS生产的熔融+LOI分析系统使得XRF样品预处理更简单,重复性更好,更独立,并且能够在熔融过程中得到数据信息,这些信息在之后的XRF分析会用到,大大的简化了分析过程,并且提高了
测量精度。
对于那些需要进行LOI分析的用户,AFS-5000可以同时实现16位LOI分析,仅仅需要增加适用于LOI分析的软件以及陶瓷或石英坩埚,Z高温度可达1150℃。
规格参数:样品位:12,或16
软件特色:程序数不受限制,支持数据库连接,输出TXT,CSV,XLS
文件到LIMS 和EXCEL
LOI重量丢失和增加范围:0-
天平精度:0.1mg
LOI精度:由天平分辨率提供
温度范围:200-1150℃±1℃
仪器控制:台式PC 或笔记本
尺寸(W×L×H):111×60×57cm+33cm(加载装置)
重量:120kg
电源:220VAC(2KW)