商品描述：
在金相实验室，金相试样的制备过程中，试样的预磨、抛光研磨是多道必不可少的程序，本机YMP-2B双速磨抛机的集污盘和罩采用采用PPC材料一体成形，是具有外形新颖美观的Z新产品。本机经久耐用，电机为直流无刷电机，维护保养极为方便，使用时只需更换磨盘或抛盘，就能完成各种试样的粗磨、精磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序，为扩大不同试样的制作要求，该机的磨，抛盘直径均大于国内同类产品。可在工作面上有更多不同线速的选择，可增加有效工作面的20-30%，同时提高试样的磨抛质量和试样的制备效率，并该机转动平稳，噪音低，是一种极为理想和功能完善的Z佳金相制样设备。 主要参数: 磨抛盘直径：230mm 砂纸直径：230mm 转 速：500r/min ，1000r/min 电 动 机：JW7124，380v，550w，50Hz 外形尺寸：757×623×320mm 净 重：58kg |
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