仪器简介:
研究开发用Z适合等离子清洗机
用途:
CSB/BGA/COB基板的等离子处理
有机膜和金属氧化膜的除去
印刷电路基板的干洗
界面活性处理
主要特点:
RIE模式标配(DP切换为选购)
等离子的均应性高操作简单的液晶触摸屏控制面
技术参数:
型号 | PDC200 | PDC210 | PDC510 |
模式 | RIE模式(DP选配) | DP模式 | DP/RIE切换方式 |
电极构造 | 平行平板电极(固定) |
高频输出功率 | MAX300W | Max 500W |
频率 | 13.56MHz |
控制方式 | 自动联动,液晶触摸屏控制 |
反应室尺寸 | 400×250×150mm | 500×300×200 |
电极尺寸 | 250×170mm | 400×200mm |
反应室材质 | 一次性一体成型铝腔(防腐蚀,可对应CF4) |
反应气体 | 2系统(Ar/O2) |
填充气体 | N2/洁净干燥空气 |
反应气体流量控制 | 流量计 | 聚合控制器 |
真空泵 | 另行选配 | KASHIYAMA Neodry30E(排气量500L/min) | KASHIYAMA Neodry30E(排气量500L/min) |
气体导入口 | 反应气体2套,填充气体1套 |
外型尺寸 | 540×600×600mm | 540×600×600mm | 700×700×700mm |
电源 | 单相AC100V 1 50/60Hz | 三相AC100V 1 50/60Hz |