岩征品Pai-紫外臭氧清洗机优势:
1、可调节样品台与UV灯距离
2、长寿命的低压汞格栅灯
3、GX率的UV反光罩
4、更安全-清洗腔体打开时自动关闭UV灯
5、更坚固美观-全不锈钢拉丝设计
6、节省实验室空间-控制与反应腔体一体化设计
7、可定制真空反应腔和加热样品台。
北京岩征仪器 uv光清洗机应用领域:
■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超高真空度密封。
■清洗硅芯片,透镜,反光镜,太阳能面板,冷轧钢,惯性引导零件和 GaAs芯片
■清洁焊剂,混合电路以及平板LCD显示器
■蚀刻特氟隆,氟橡胶以及其它有机材料
■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面
■增强玻璃的除气作用
■基片蓝膜去除
■增强塑料表面的镀膜的粘附性
■基片终测后墨迹清楚
■去除光刻胶
■平板显示器/液晶显示器
■去除光刻机台上的光刻胶残留物
■在电路板封装和打片之前清洗)
■光纤
■增强表面亲水特性
■为生物科学应用做清洗和消毒
■光学透镜
■其它应用
参考客户:清华大学,中南大学,华南师范大学,哈尔滨工业大学深圳研究生院,东北大学,郑州大学等;