南京微分干涉显微镜工业检测显微镜WFX-10观察导电粒子

南京微分干涉显微镜工业检测显微镜WFX-10观察导电粒子

WFX-10微分干涉显微镜系统

WFX-10微分干涉显微镜系统为无限远光学系统，长工作距离平场复消色差物镜，稳定可靠的架台，精确的调焦机构。采用LED用轴光源和LED透射光源照明。偏光系统检偏镜可调转动100度便于偏光正交观察。DIC棱镜插板机构采用可调节的方式可得到Z佳的微分干涉效果。大视野单目观察，减少很多中间环节，使成像更清晰效果更好。配置高清模拟摄像机能快速捕捉高质量的清晰图像。

WFX-10工业检测显微镜稳定可靠，操作方便，成像清晰。广泛应用于半导体、电子工业（工业检测显微镜、LED液晶屏导电粒子检测、专业DIC微分干涉检测）。对晶体、集成电路的检验和科学研究。在光学仪器上可加装或改装检测显微镜装置，其对所观察的样品进行拍照、储存、测量、分析。

南京微分干涉显微镜工业检测显微镜WFX-10观察导电粒子

微分干涉显微镜系统用途：

1. 明场观察：使用亮度可调的同轴照明，对晶体、集成电路的检验、精密制造业的装配、零件检测和品质控制。
2. 透射观察：采用亮度可调的透射照明，可观察透明样品，尤其对液晶显示屏的检测效果更好，能清楚的看到发光屏的三色模块，因此能检测显示屏的好坏，可判断其质量。
3. 偏光观察：系统内装置偏光机构，起偏镜固定在照明系统；检偏镜装置在成像系统、转动100度可调，便于正交观察。主要对金相样品进行正交偏振光观察，还可应用于矿物、化学等领域。
4. DIC观察--微分干涉观察：在明场、偏光正交的系统里再插入DIC棱镜装置（渥拉斯顿棱镜）。（DIC）作为一种极具前途的分析检验方法，具有对金相样品的制备要求较低，所观察到的样品各组成之间的相对层次关系突出，呈明显的浮雕状，对颗粒、裂纹、孔洞以及凸起等能作出正确的判断，能够容易判断许多明场下所看不到的或难于判别的一些结构细节或缺陷，可进行彩色金相摄影等优点。但在目前的金相检验工作中，（DIC）法还利用得很少。    特别是对液晶显示屏导电板的检测效果更好，能够清楚的观察到导电板基板上的导电粒子。使用DIC技术，可以使物体表面微小的高低差展现出清晰，轮廓突出，带立体感的浮雕成像，极大的提高图像的对比度。

工业检测显微镜规格配置：

1. 无限远光学系统：f=200mm
2. 光学放大位数：50X、100X、200X、500X
3. 长工作距离：5~45mm
4. 调焦范围：60mm
5. 工作台：260X220mm、玻璃：170X150mm
6. 移动范围：X：±75mm、 Y：±75mm   
7. 照明系统：垂直照明、透射照明