CVD系统_详细资料_供应商-仪器网

产品信息

CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域
CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统
CVD系统产品的特点：
1 CVD系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
2 CVD系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
3 CVD系统使用计算机控制，可以设置多种生长参数
4 CVD系统可以制备高质量，大面积石墨烯等碳材料，尺寸可达数厘米，研究动力学过程
5 CVD系统沉积效率高；薄膜的成分精确可控，配比范围大；厚度范围广，由几百埃至数毫米，可以实现厚膜沉积且能大量生产

产品名称
高真空CVD系统
产品型号
ZX-03A（扩散泵）
ZX-04A（分子泵）
使用真空范围
1X10^-2Pa-1X10^1Pa
1X10^-3Pa-1X10^1Pa
真空规管
热偶规管、电离规管
控制方式
自动控制
载重量
150Kg
工作电源
AC220V±5% 50Hz
真空泵参数
双极真空泵理论极限真空度 0.6Pa（6X10^-1Pa ），抽气速率4L/S,额定电压220V 功率0.55KW
分子真空泵理论极限真空度 0.0000006Pa（6X10^-7Pa），抽气速率160L/S,额定电压220V 功率2KW
扩散真空泵理论极限真空度 0.0000006Pa（6X10^-3Pa），抽气速率160L/S,额定电压220V 功率2KW
外形尺寸（深x宽x高）
600x6500x1080mm
600x6500x1050mm
重量
170Kg
150Kg
标准配置
真空规管2支,波纹管1支，KF卡箍4个，四通1个，高真空手动挡板阀1个
质量保证
整机保修1年，不包含真空规管
配套产品
SK系列真空/气氛管式电炉、SX系列真空/气氛箱式电炉、真空规管、气体流量控制柜

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产品名称	高真空CVD系统
产品型号	ZX-03A（扩散泵）	ZX-04A（分子泵）
使用真空范围	1X10^-2Pa-1X10^1Pa	1X10^-3Pa-1X10^1Pa
真空规管	热偶规管、电离规管
控制方式	自动控制
载重量	150Kg
工作电源	AC220V±5% 50Hz
真空泵参数	双极真空泵理论极限真空度 0.6Pa（6X10^-1Pa ），抽气速率4L/S,额定电压220V 功率0.55KW
	分子真空泵理论极限真空度 0.0000006Pa（6X10^-7Pa），抽气速率160L/S,额定电压220V 功率2KW
	扩散真空泵理论极限真空度 0.0000006Pa（6X10^-3Pa），抽气速率160L/S,额定电压220V 功率2KW
外形尺寸（深x宽x高）	600x6500x1080mm	600x6500x1050mm
重量	170Kg	150Kg
标准配置	真空规管2支,波纹管1支，KF卡箍4个，四通1个，高真空手动挡板阀1个
质量保证	整机保修1年，不包含真空规管
配套产品	SK系列真空/气氛管式电炉、SX系列真空/气氛箱式电炉、真空规管、气体流量控制柜