TN-1200X-80型高真空CVD管式炉
该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
仪器的控制系统采用原装进口产品，具有操作容易，安全可靠，控温精度高（专家PID控制），保温效果好，温度范围大，炉膛温度均匀性高，温区多，可通气泵，抽真空等特点。
1 | 产品名称 | 高真空CVD管式炉 |
2 | 产品型号 | TN-1200X-80 |
3 | 加热元件 | 电阻丝 |
4 | 加热区长度 | 220mm |
5 | 恒温区长度 | 100mm |
6 | 工作温度 | ≤1100℃ |
7 | Z高温度 | 1200℃ |
8 | 控温方式 | 智能化30段可编程控制 |
9 | 恒温精度 | ±1℃ |
10 | 炉门结构 | 开启式 |
11 | 工作电源 | Ac220v 50Hz/60Hz |
12 | 额定功率 | 2.5kw |
13 | 外形尺寸 | 550x380x520mm |
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