技术参数：
产水水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级
产水水量：0.5-100T/H
材 质：玻璃钢，不锈钢，有机玻璃等
工艺流程：
1、预处理→反渗透→水箱→阳床→阴床→混床→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→精密过滤器→用水对象
2、预处理→一级反渗透→加药泵（ PH调节）→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
主要特点：
*该系统一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能。
*系统结构布置紧凑，有效节约空间。
*系统能耗低，制水成本低廉。
*系统运行安全可靠，供水管路封闭，出水水质稳定。
适用范围：
生产半导体、光伏太阳能、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统
若对此产品感兴趣我厂可提供详细方案，内容如下：
*项目分析：原水水质分析、施工要求分析；
*引用水质标准；
*超纯水解决方案：超纯水工艺说明、详细工艺流程图；
*施工解决方案；
*设备技术参数
*系统配置及技术参数；
*设备报价；
*付款方式；
*年度耗材费用表
