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| 超纯水除静电设备领域的Z杰出代表 晶元和半导体芯片切割机的必配设备 特征： - 超越新世纪的节约环保设计理念，采用当前Z先 进的比阻抗控制技术，来YZ超纯水中静电的发生。
- 在半导体制造和FPD制造、晶元（芯片）切割工序 中被用来对超纯水进行比阻抗的Z优化控制，防止 静电破坏和微粒子的附着。
- 创造划时代技术指标的Z产品。
- 可根据用途选择相应机型
- 装机容易
全机型阻抗探头内置，配管容易。 - 大水量，压力损失小
水量3000L/h时，压力损失0.06MPa - 操作简单，控制精度高
开机后只需输入所要阻抗值，即可 马上进行±0.03MΩ/cm精确控制。 - 可在高水压环境下运行
Z高使用压力在0.5MPa,可以自由 进行机种配置。 - 水量变动应答速度快
使用水量发生很大变化时也能迅速 做出调整控制。 - 经济环保
不需要Co2溶解膜等旧式机种必 不可少的高价的消耗品，Co2排气 和排水也不要。 - 双氧水杀菌对应
可用3%双氧水进行杀菌处理， 细菌繁殖也不用担心。 |
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| 机型 | Rack type | N4R-1.0-50 | N4R-2.0-120 | N4R-3.0-120 | | Cabinet type | N4C-1.0-50 | N4C-2.0-120 | N4C-3.0-120 | | 处理量 | 100--1000L/h | 200--2000L/h | 300--3000L/h | | 控制范围 | 0.15--1.7MΩ/cm | 0.15--1.5MΩ/cm | 0.15--1.9MΩ/cm | | 精度 | Set resistivity±0.03MΩ/cm | | Z大水压 | 0.5MPa | | CO2压力 | 0.7MPa | | 压力损失 | 0.06MPa at 3000L/h | | 接口尺寸 | 3/4"female screw | | 重量 | Rack type | 28Kg | | Cabinet type | 67Kg | | 外形尺寸 | Rack type | 480W*430L*250H（mm） | | Cabinet type | 430W*430L*1350H（mm） | | 电源 | AC100--130V,AC220--240V,50/60Hz,single |
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