分光系统:
分光装置:凹面全息离子刻蚀衍射光栅,帕邢-龙格装置 ;
波长范围:120-589nm
衍射光栅:凹面光栅曲率半径:600nm
刻线数: 2400条/nm
真空系统:直联放置真空泵 真空度1.33Pm
光源系统:
激发电压:500V或300V(软件设置自动转换)
激发条件:6种类型
激发频率:可设置3种放电频率(均可在40-500Hz范围内软件自动转换)
发光台: 水平型氩气保护发光台
对电极清洗:每次激发结束时自动清洗
测光系统:
通道数:Z多64个通道
PDA测光法
单一脉冲积分法
分析软件:
分析元素数:64个元素
处理通道数:64个元素(包括内标元素)
PDA处理通道数:64个元素(包括内标元素)
内标准法:对每个元素可以指定2个内标
工作曲线: 64×4=256条/每组,1—3次式,可通道跳跃
标准样品登录数:2000个标准样品/每个基体
标准化:1点或2点标准化
校正处理:校正;共存元素校正,每个通道16个元素;控样校正;特殊计算;
工程管理功能:规格判断;R管理;-R管理图;直方图;
数据传输:RS-232C上传输;自动或手动;局域网传输(TCP/IP选购件);
分析数据处理:可将分析结果制作日报;分析数据可转换为表格文件;数据库功能;
分析情报保护:密码保护
设置场所的环境要求:
面积:大约3×2m以上
温度:10-30℃ 每小时变化<5℃
参考:装置的发热量大约为1100Kcal/小时
氩气:纯度要求99.995%以上, 氧含量<5ppm;分析高硅时,氧含量<2ppm
电源:单相 220V±10%