独立操作的多探针扫描探针显微技术(SPM)一直是SPM发展的梦想,随着mv-4000正式推向市场,这个梦想变成了现实。独立多探针扫描探针显微镜(AFM&NSOM)在许多以前不可能实现的领域一显身手,包括:
1)使用多探针进行纳米尺度表面电阻测量,双探针可以构建一组纳米尺度的四点探针;
2)热传导测量+电学测量相结合,研究形貌与热、电相结合的材料纳米特性;
3)多NSOM探针进行光学测量,Z简单的应用为一根探针将光引入光学元件、另一根探针从光学元件再将光收集;
4)一探针对材料进行光或热降解,另一探针将降解的成分引入其他设备进行化学分析;
5)一探针进行纳米化学书写,另一探针进行成像监控;
6)一探针进行纳米压痕,另一探针同时进行成像及热扫描……
这只是多探针扫描探针显微镜应用的开始,重要的是mv-4000可以为科学家搭建一个多纳米手的多功能平台,来满足纳米材料科学家们许多独特的想法,而这些想法用传统的SPM技术并不能够实现。
告诉我们您的想法,我们来帮您实现吧!
产品规格:
1) 操作模式
原子力显微镜(AFM) | 敲击模式,接触模式(选配),所有探针或样品扫描的AFM操作模式 |
近场扫描光学显微镜(NSOM) | 透射模式,反射模式,收集模式,照明模式 |
微分干涉对比(DIC) | 反射和透射 |
折射率成像(Refractive-Index Profiling) | 反射和透射 |
热传导及扩展电阻成像 | 接触模式,敲击模式,音叉反馈模式(无反馈激光引入干扰信号,选配) |
在线远场共聚焦(和拉曼及荧光光谱成像) | 反射和透射,针对选择性拉曼散射超薄膜的探针增强拉曼散射 |
纳米蚀刻(NanoLithography) | NanoFountainPen传输化学物质和气体,近场光刻及其他传统纳米蚀刻如电致氧化等,另一根探针进行在线分析 |
纳米压痕(NanoIndentation) | 兆帕力的应用,精确定位及力的控制,另一根探针进行在线分析 |
| 以上所有功能都可以与在线AFM成像完全兼容 |
2) SPM扫描头规格
样品扫描器 | 压电材料制薄片扫描器 (3D Flat Scanner™) 厚度为7毫米 |
探针扫描器 | Z多四个独立控制的压电材料制薄片扫描器模块 (3D Flat Scanner™) 厚度为7毫米 |
扫描范围 | 探针扫描模式,每只探针扫描范围: 30 microns (XYZ) 样品扫描模式,扫描范围: 100 microns (XYZ) 样品和探针扫描模式,扫描范围: 130 microns (XYZ) 样品和两个探针扫描模式,扫描范围: 160 microns (XY) |
扫描分辨率 | < 0.05 nm (Z) < 0.15 nm (XY) < 0.02 nm (XY) 低电压模式 |
粗调定位 | 样品粗调定位:XY马达控制台– 范围5毫米 – 分辨率0.25微米 探针粗调定位:XY马达控制台– 范围5毫米 – 分辨率0.25微米 Z马达控制台– 范围10毫米 – 分辨率0.065微米 |
反馈机制 | 音叉反馈,悬臂梁光束反弹反馈(选配) |
样品几何要求 | 样品尺寸:标准配置下,直径Z大至16毫米 正置显微镜下使用,直径Z大至34毫米 只使用探针扫描, 直径Z大至55毫米 可按客户要求定制大尺寸样品操作仪器,直径Z大至8英寸 特殊样品形状:如竖直样品进行边缘成像等 |
探针 | 各种针尖外露的玻璃探针,各种常规悬臂梁硅探针均可使用 |
3) 成像分辨率
远场 | 受光衍射几何限制 |
光学 | 500纳米 |
共聚焦 | 200纳米 |
近场扫描光学 | 100纳米,极端条件下可达到50纳米(由探针孔径决定) |
形貌 | Z向噪声0.05纳米 rms. XY横向分辨率:由针尖直径和样品的卷积决定 |
热成像 | 100纳米起,温度灵敏度0.01ºC,300 ºC或更高(由样品决定) |
电阻成像 | 25纳米起 |