简单介绍
MKS远程等离子体源——CVD工艺腔室清洗的选择： 1.提高生产力人工清洗时间占用大量的设备时间，又是还多于成膜时间，还可能造成腔室部件的意外损坏。使用非常活性的化学品，或腔室内等离子体的存在，喷砂等清洗都会有损于腔室内部的部件 2.节约成本 优选远程等离子体清洗理由 减少工艺腔内部的损坏 更高的清洗速率 更高的清洗均匀性 CVD成膜和工艺腔室清洗的工艺优化可分别处理 MKS远程等离子体源的详细介绍
远程等离子体源工作原理
*“远程等离子体源技术” 是基于变压器工作
——初级由RF源提供功率电流
——次级感应电流激发环形等离子体.
*等离子体形成于直径为2.5厘米的环形通道
*三种功能集成在单一封装内
——控制
——功率产生
——等离子体产生
*等离子体内保持很低的电场
——避免对腔室内壁的离子轰击
——典型电场为 4-8 v/cm.
MKS远程等离子体源的优势——CVD工艺腔室清洗的选择
1.提高生产力
人工清洗时间占用大量的设备时间，又是还多于成膜时间，还可能造成腔室部件的意外损坏。
使用非常活性的化学品，或腔室内等离子体的存在，喷砂等清洗都会有损于腔室内部的部件
2.节约成本
优选远程等离子体清洗理由
减少工艺腔内部的损坏
更高的清洗速率
更高的清洗均匀性
CVD成膜和工艺腔室清洗的工艺优化可分别处理
详情可见网站：http://www.dymekchina.cn/
