MCR高级流变仪安东帕光学流变仪_详细资料

产品信息

技术参数：
主机推荐使用MCR102或MCR302流变仪！
光学模块型号
主要功能描述
主要光学参数
温度范围

显微流变测试系统

（MicroScope）

在测试流变数据的同时，用显微镜观察样品形态，并用摄像机直接记录样品图像信息，适用于乳液、悬浮液等多相样品。
标准光学倍数：20
Z大光学倍数：50
分散相尺寸：大于1μm
0 ～ 120℃
室温～ 300℃
小角激光散射（SALS）
在测试流变数据的同时，用激光散射的方法测试样品中的分散相形态信息，并用摄像机记录散射图像，适用于乳液、悬浮液等多相样品。
激光波长： 658 nm
激光强度： 2-6 mW 可调
Z小散射角： ~ 1°
Z大散射角： ~ 25°
0 ～ 120℃
室温～ 300℃
X射线散射系统
研究纳米材料的结构
适用于同步辐射实验室

中子散射系统SANS
研究纳米材料的结构
适用于国家中子源实验室

动态光学分析
（双折射和二色性）
各向同性材料的折光指数在光传播的各个方向均相同，因此双折射只发生在各项异性的材料中，双折射行为同时也成为了各向异性的标志。
某些材料在一个入射平面的吸收高于另一个平面，随着光不断的深入材料内部，光变得越来越偏振，这种各向异性的吸收称为二向色性。
二色性（光路长20mm） 1·10^-9
双折射（光路长20mm） 2·10^-9
激光波长 638 nm
10 ～ 80℃
UV引发反应测试系统
可通过流变仪软件控制光源，用于研究UV引发的化学反应，并与反应同步测试流变学参数的变化，通过流变学参数监测反应进程；如UV固化的油墨和涂料等。
UV 光源峰值强度（可选）：
250 nm - 450 nm：22500 mW/cm²
365 nm： 5600 mW/cm²
320 nm - 390 nm：10300 mW/cm²
320 nm - 500 nm：21700 mW/cm²
-40℃ to 200℃
PIV粒子成像测速
粒子成像测速 (PIV)与流变测量同时进行的技术是研究液体流场的有效工具，如：剪切带、流动不稳定性或起始流等流体行为。
由透明同轴圆筒系统、CCD、光路系统、成像控制系统等部分组成。
10℃～70℃

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光学模块型号	主要功能描述	主要光学参数	温度范围
显微流变测试系统（MicroScope）	在测试流变数据的同时，用显微镜观察样品形态，并用摄像机直接记录样品图像信息，适用于乳液、悬浮液等多相样品。	标准光学倍数：20 Z大光学倍数：50 分散相尺寸：大于1μm	0 ～ 120℃ 室温～ 300℃
小角激光散射（SALS）	在测试流变数据的同时，用激光散射的方法测试样品中的分散相形态信息，并用摄像机记录散射图像，适用于乳液、悬浮液等多相样品。	激光波长： 658 nm 激光强度： 2-6 mW 可调 Z小散射角： ~ 1° Z大散射角： ~ 25°	0 ～ 120℃ 室温～ 300℃
X射线散射系统	研究纳米材料的结构	适用于同步辐射实验室
中子散射系统SANS	研究纳米材料的结构	适用于国家中子源实验室
动态光学分析（双折射和二色性）	各向同性材料的折光指数在光传播的各个方向均相同，因此双折射只发生在各项异性的材料中，双折射行为同时也成为了各向异性的标志。某些材料在一个入射平面的吸收高于另一个平面，随着光不断的深入材料内部，光变得越来越偏振，这种各向异性的吸收称为二向色性。	二色性（光路长20mm） 1·10^-9 双折射（光路长20mm） 2·10^-9 激光波长 638 nm	10 ～ 80℃
UV引发反应测试系统	可通过流变仪软件控制光源，用于研究UV引发的化学反应，并与反应同步测试流变学参数的变化，通过流变学参数监测反应进程；如UV固化的油墨和涂料等。	UV 光源峰值强度（可选）： 250 nm - 450 nm：22500 mW/cm² 365 nm： 5600 mW/cm² 320 nm - 390 nm：10300 mW/cm² 320 nm - 500 nm：21700 mW/cm²	-40℃ to 200℃
PIV粒子成像测速	粒子成像测速 (PIV)与流变测量同时进行的技术是研究液体流场的有效工具，如：剪切带、流动不稳定性或起始流等流体行为。	由透明同轴圆筒系统、CCD、光路系统、成像控制系统等部分组成。	10℃～70℃

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