本设备用于测量、分析光电探测器、CMOS,CCD等器件的微小局部特性,由于CMOS单位画素尺寸小于50微米,无法以一般的白光光源聚焦到微米等级的光斑,须采用激光光源方能聚焦到微米等级后,因此需要激光光束引致电流扫描图谱仪,测量微小器件的居部特性。 激光光束引致电流扫描图谱仪为精密的光电转换效率量测扫描装置,用于检测光电探测器、CCD、CMOS器件的转换效率、均匀度,光谱响应,量子效率等特性。其组成为激光源、聚焦光路集成系统、精密电动扫描平台、光电流讯号量测系统、控制分析系统及软件等五大部分。
1.激光源部分: 采用高同调性、高能量的激光,作为激发光电探测器器件,引致其产生光电流,本身的光强度不稳定性需≦ 1 %。
2.聚焦光路集成系统: 为多种光学零件(反射镜、镜座、光学滤镜等等)组成之精密光学系统,可导引激光光源到聚焦光学镜组,聚焦后产生微米(micrometer)等级的光点,用以量测光电器件微小局部特性。
3.精密电动扫描平台: 用以载附光电器件作二维移动,以使聚焦光点能在器件表面作扫描量测。
4.光电流讯号量测系统: 聚焦后的光点在入射到器件后,产生光电转换,生成微弱光电流讯号(奈安培到微安培等级),经过光电转换放大器,锁相放大器测得此光电讯号。
5.控制分析系统及软件: 能控制激光源、光束大小调整、精密电动平台移动、及微弱光电量测四大部分,作器件特性的二为扫描量测,并将量测数据自动作分析及绘制二维及三微的图形显示。