BTX高通量多孔板优化电穿孔系统HT-MOS

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多孔板优化电穿孔系统—HT-MOS（High-Throughput Multi-well Optimization System）, 用多孔板取代传统的样品电极杯，可同时处理大量常规样品，大大提高了通量，并可进行实验条件优化，有效地加快实验进程。

MOS系统由三个部分组成：脉冲发生器（ECM830/630）、MOS板处理仪、MOS板，该系统使用新的25孔（5×5）或96（8×12）孔板代替传统的样品电极杯，能在数秒内完成许多样品的电穿孔操作，大大提高通量，加快了实验进程。

还可对每列设置不同的电穿孔参数，方便进行参数优化实验，迅速找到Z合适的电穿孔实验参数，获得理想的实验效果。

    准确性：

拥有专利技术的复合电极消除交叉污染，随板附送的平板盖保证样品的洁净。

    快速性

的高通量表现，在数秒间完成多个样品的电穿孔，适用于条件优化选择。

    应用广：

广泛适用于高通量进行电穿孔条件优化的实验：哺乳动物细胞转染；细菌、酵母和植物细胞的转化；siRNA和cDNA文库构建等。

脉冲发生器：给MOS板处理仪提供电脉冲，与ECM630或ECM830兼容。

MOS板处理仪： HT-100MOS板处理仪需手动使脉冲一列一列依次进行，HT-200MOS板处理仪可自动将脉冲逐列传递。

电压范围： 0 to 3000 V 直流电脉冲

脉冲时间： 10μsec to 10 sec

脉冲次数： 1 to 99

MOS板：每一个MOS板包含96（8×12）或25（5×5）个独立的小孔，每列设置不同的电穿孔参数，可进行快速的参数优化，用于高通量的样品处理。电极材料为铝合金，有不同的间距满足用户的不同需求。