一、产品概述: SPIN150i型匀胶机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。MYCRO的SPIN系列匀胶机具有稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性,这正是SPIN150i型匀胶机的特点。二、匀胶机工作原理: 匀胶机(spin coater)的工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,匀胶机常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。三、匀胶机主要性能指标:1、腔体直径:8英寸 (202 毫米);2、Wafer芯片尺寸:10-160mm直径的材料,4英寸方片;3、转速范围: 1~12000RPM**,±1rpm steps;4、Z大加速度:30000RPM/S;5、转速精度: ±0.1rpm;6、程序段数:无限制;7、操作步数:无限制;8、旋转时间:无限制*,±0.1 Second steps;9、旋转方向:顺时针,逆时针,交换摆动;10、扩展接口:1个USB接口;11、马达保护:20-50kPa,2-5l/min,Tube OD ? 6mm(可关闭);12、排废连接:1” M-NPT;13、触屏控制:全彩触摸屏控制界面;
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