SUPRA 55 SAPPHIRE 场发射电子显微镜 德国.蔡司

品Pai：卡尔·蔡司

 型号：SUPRA 55 SAPPHIRE

 制造商：德国卡尔蔡司公司

【品Pai故事】 

    世界光学品Pai，可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥），积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一：

   一台静电式透射电镜 (1949)

    一台商业化扫描电镜 (1965)

    一台数字化扫描电镜(1985)

    一台场发射扫描电镜(1990)

    一台带有成像滤波器的透射电镜 (1992)

    一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜(2003)

    一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)

    CARL ZEISS以其前瞻性至臻的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品Pai在光电子领域无可撼动的地位。自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造核心先进的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。作为电镜标准的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。

【总体描述】

    SUPRA 55 SAPPHIRE是一款拥有第三代GEMINI镜筒的高性能场发射电子显微镜，它有的摆动缓冲系统，并结合了5轴驱动载物台，通过不断变换电压可以获得很高的分辨率。对于使用者来说，SUPPRA 55 SAPPHIRE的系统功能强大，可以在性对不稳定的环境下完成检测，完全分析型的场发射扫描电镜探针电流可达到20nA，适用范围如材料领域、半导体技术、生命科学和纳米技术领域等。

    ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代镜筒(GEMINI)设计，具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前世界上真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器，具有的灵敏度和Z高的接收效率，而且只接收来自样品表面的二次电子，因此具有业界Z高等级的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上，试样的工作距离不受背散射探测器的影响，可以非常接近极靴，这样可以同时获得Z高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率，且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜，杂散磁场小，可对铁磁体样品进行高分辨率成像。

【技术参数】

分辨率：   0.8nm@ 15KV    

           1.6nm @ 1KV           

           2.0nm @ 30KV(VP mode)

放大倍数： 12 - 1,000,000x

加速电压： 0.02 - 30 KV

探针电流： 4 pA - 20 nA (12pA - 100 nA 可选)

样品室：   330 mm (φ) x 270 mm (h)

样品台：   5轴优ZX全自动 

                 X = 130mm 

                 Y = 130 mm 

                 Z = 50mm 

                 T = -3 to 70° 

                 R = 360°连续旋转

系统控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

 【产品应用】

      扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。