型号(Model) | CRF-APO-500W |
电源(Power supply) | 220V/AC,50/60Hz |
功率(Power) | 2set*1000W/25KHz(Option) |
处理宽幅(Processing width) | 50mm-500mm(Option) |
有效处理高度(Processing height) | 5-15mm |
处理速度(Processing speed) | 0-5m/min |
传动方式(Drive mode) | 防静电绝缘滚轮 |
喷头数量(Number) | 2(Option) |
工作气体(Gas) | Compressed Air(0.4mpa) |
配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用JZ运动模组,操作简便;
可选配喷头数量,满足客户多元化需求;
配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净;
主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
冷等离子体装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这时会发出辉光,故称为辉光放电处理。辉光放电时的气压大小对材料处理效果有很大影响,另外与放电功率,气体成分及流动速度、材料类型等因素有关。
不同的放电方式、工作物质状态及上述影响等离子体产生的因素,相互组合可形成各种低温等离子体处理设备。