DH2008微波CVD薄膜制备装置
DH2008系列产品为一GX微波等离子体化学气相沉积制备设备,YS-600活塞压力计YU-60皮碗,DH2008微波CVD薄膜制备装置可用于生长金刚
石薄膜、碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜,具有生长速度快、操作简便、性
价比高等优点。适合大学物理、材料、化学等领域的学生实验及教师科学研究。
◆设备规格配置: 高斯计特斯拉计
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YS-600活塞压力计YU-60皮碗,DH2008微波CVD薄膜制备装置
YS-2.5
YS-6
YU-600
YS-60
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