应用范围
□ 测试半导体材料或其它发光特性材料在激光激发下产生的荧光光谱。常见系统采用紫外或近紫外激光激发半导体材料(III-V族如GaN等,II-VI族如ZnO、CdTe等)产生荧光,或用可见和红外激光器激发稀土掺杂的玻璃或晶体材料产生荧光,通过对其荧光光谱的测量,分析该材料的能带结构等特征。
主要规格及特色
□ 测试光谱范围:200—5000nm(可根据要求选择)
□ 激光器波长:224nm、248nm、266nm、325nm/442nm、488/514nm、532nm、946nm、1064nm等可选
□ 低温PL测试:采用液氦循环制冷系统或液氮制冷系统对样品制冷,测试样品在低温下的发光光谱特性,zui低可达2K
□ 宽光谱范围全自动光谱扫描
□ 系统由激发光源部分、样品室部分、分光部分、探测部分、信号采集处理部分、软件部分组成
□ 采用了高通光效率、低杂散光水平的单色仪和优化的光路
□ 采用锁相放大器进行信号的处理,大大的提高了系统的信噪比
□ 系统经过多年技术积累和客户的成功使用经验,具有很高的可靠性
□ 采用模块化设计,使用灵活,便于功能扩展和升级
□ 可实现样品原位测量
□ 可升级做显微的PL光谱测试
□ 可升级做EL电致发光测量
□ 可升级做电场调制光谱
□ 可升级做透射、反射光谱测试