MU400 高性能离子减薄仪（Ion Milling）

系统简单配置如下： 

Load lock 
真空系统: 机械泵Oil pump/Dry pump + 涡轮分子泵/低温泵/电磁泵

离子枪: DC / RF 

均匀性：100 mm衬底 +/- 4%, 刻蚀速率降低均匀性优于+/-2% 

衬底尺寸：4英寸衬底（4-12英寸可选），水冷。 

终端检测系统：SIMS 或激光干涉仪。 

控制方式：全自动电脑控制，半自动或手动控制可选。 


详细信息和资料，请！