保修期：
1年
现货状态：
有
数量：
1
规格：
25kg
紫外光臭氧清洗系统 THEMIS深度紫外臭氧清洗与反应系统，是一部应用深度紫外辐射（主要光波是184.9nm及253.7nm）达到表面原子级洁净以及对物件产生光清洗、光化学反应、光改质等效应的科学设备，由中科院与芬兰ZS专家合作设计，重要部件的制造以及调校由航天部高级工程师亲自完成。产品特点 - 采用抽屉自锁式一体机设计，方便摆放
- 采用固态金属双波汞灯光源，保证光辐射不会随着温度升高而大幅衰减，光强度可达50 mW/cm2
- 载物平台与光源的间距可精确调高和测高（精度达0.5mm）
- 冷却温度可平滑控制，并且能精确监视当前温度值（精度0.1℃）
- 时间可在0~9999s范围内任意设置，并实时显示
- 独立的光辐射功率测试功能，专为实验数据研究设计
- 完整的警示和保护系统，无须时刻关注机器的运行
- 集成臭氧抽风系统，排风管道可根据您的需求自行增减
产品规格 - 可选清洗尺寸：6”×6” 型（15cm×15cm),8”×8” 型 （20cm×20cm）（任选一种，更大可定制）
- 灯管寿命可达10000小时以上
- 外部规格尺寸：550mm宽×310mm高×670mm长（含排风管连接端）
- 整机标配8米排风管道，内外双层铝膜，抗氧化，可根据您的需求自行增减
- 整机功率：6inch型150W 、8inch型280W
- 整机重量：25Kg
应用领域 - 彻底清除各种ITO光学玻璃，半导体硅晶片、石英晶体、光盘、彩色滤光片等表面有机污染物
- 在LCD、OLED生产中，在上胶镀膜前经过UV光电表面清洗，浸润接触角减小数倍，极大提高基体表面的浸润性，增强粘合力，防止针孔、裂缝等缺陷发生
- 对高精度印制电路板或大规模集成电路等，高密度、微线距电路板进行UV光电表面清洗，可以大大提高熔焊接触面积，去除表面微小污染物，提高产品可靠度
- 对各种金属表面进行UV光电表面清洗，可以去除松香、环氧树脂、焊剂、各种油脂、各种胶质、各种残留粘合剂、各种有机氧化膜等污染物，获得超洁净的金属表面，以更好的应对各种后续工艺
- 深度UV光电辐射出的光子能量，可以对特定材料表面产生改质反应，进而开发出独具特性的新型材料，这已经越来越为科研人员和企业所关注
深圳市互恒科技有限公司
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