EssentOptics 为真空镀膜行业开发与生产光学监测系统。真空沉积过程的高重复性与精密光学参量非常关键，该系统成功应用于真空沉积过程的原位控制。它整合了早期EOS光谱仪与M250光谱仪设计，由拥有薄膜设计、光学镀膜与过程控制系统的资深专家开发。因测量方法不同，该系统分为两类：• 带单色仪的AKRA 系列• 带分光光度计的IRIS系列
AKRA 单波长检测系统
AKRA单波长光学检测系统用于所有主要涂层沉积过程的单波长监测，光谱范围从200至5000nm
根据客户实际需要与应用选择的光谱控制范围。每层沉积后，用户能轻松扫描整个测量光谱，并且将测量的光谱与计算数据对比。AKRA的另外一个重要特点是具有在1.5-5微米红外区控制复合涂层沉积过程的现场证实的可行性。使用二阶控制，可至14微米
IRIS 宽波段光学监测系统
IRIS宽波段光学监测系统提供了无与伦比的监测速度，其设计专用于实时全光谱控制任何涂层的沉积.依赖于选定的系统配置，光谱范围190nm至1700nm
使用自有设计的EOS分光光度计在任何时候能够在系统控制屏幕上显示生长层的整个光谱。这使得复杂光学涂层诸如带通滤光片、截止滤光片、与双二色滤光片甚至包括特定波长与几个波长间隔的等高产量生产成为现实。IRIS系统的一个重要特征是光学参数“从过程到过程”的高重复性，以及大幅降低R&D的成本和复杂涂层的小尺寸产品。
强大功能软件
新的软件程序包满足客户的需求 - 现在的系统不仅薄膜专家操作，而且可以由具有初步沉积知识的技术人员操作。过程主窗口的设计适于友好界面的实时监控。另外，EssentOptics专家为客户提供系统设计、应用和服务的实地培训，以及与客户分享他们的实践知识。
软件包主要参数：
1.光度函数（Oy） 和光谱 范围 （Ox）的屏幕缩放
2.过程屏幕显示多达5张光谱
3.为区分明确和观察舒适选择光谱颜色（达10种颜色）
4.逐层上传光谱计算和沉积过程校正和微调沉积光谱的比较
5.选择测量时间，平均标准和探测器的灵敏度
6.过程报表保存和打印功能图表，表值，报告的时间和日期，涂层名称，包括任何涂层的必要评论或完整过程运行。
7.过程光谱保存为文本文件和过程分析的图表
8. 庞大的光学玻璃数据库预装了控制系统的校正。
IRIS 与 AKRA 优势
光学监测系统的安装无需对真空镀膜机有任何特定修改-我们提供一整套装置连接法兰、光纤光缆和光模块。AKRA和IRIS系统的设计适应大部分的目前使用和新建的真空设备。
IRIS和AKRA光学监测系统代表一种经济实惠、可靠和方便的解决方案－－寻址获得高品质光学涂层的挑战模式。系统提供了以下重要的优势和好处：
• 材料成本和时间的显著减少用于新沉积过程和涂层的测试
• 结合新增加的真空镀膜设备的广泛性能，提供开发更复杂涂层的新机遇
• 自2004年以来，被证明是成功的光学监测系统。
• 快速的系统调试和客户培训（仅2-3天），短交货期（仅
100天）
• 调试之日起2年保修。全方位服务支持
对您的涂层专家：
• 可视实时监测沉积过程
• 使用调制的光源增加测量的精度和稳定性
• 使用逐层过程监测实时过程校正，无需真空仓排气
• 简单方便的系统服务，长期无故障使用寿命
• 实用性测试界面，具有可调屏幕设计，允许操作者在任何时候获得准确的相关信息
• 保存并储存薄膜和处理数据 用于成功运行的后续分析和复制
对您的客户：
• 沉积涂层新开放的可能性，带有Z复杂的光谱特性
• 大幅减少缺陷涂层和运行，更高的工艺出品率
沪公网安备 31011502008050号
