DNA的损伤:
由自发的或环境的因素引起DNA一级结构的任何异常的改变称为DNA的损伤。常见的DNA的损伤包括碱基脱落、碱基修饰、交联,链的断裂,重组等。引起DNA损伤的因素有:
1.自发因素:
(1)自发脱碱基:由于N-糖苷键的自发断裂,引起嘌呤或嘧啶碱基的脱落。
(2)自发脱氨基:C自发脱氨基可生成U,A自发脱氨基可生成I。
(3)复制错配:由于复制时碱基配对错误引起的损伤。
2.物理因素:由紫外线、电离辐射、X射线等引起的DNA损伤。其中,X射线和电离辐射常常引起DNA 链的断裂,而紫外线常常引起嘧啶二聚体的形成,如TT,TC,CC等二聚体。
3.化学因素:
(1)脱氨剂:如亚石肖酸与亚石肖酸盐,可加速C脱氨基生成U,A脱氨基生成I。
(2)烷基化剂:这是一类带有活性烷基的化合物,可提供甲基或其他烷基,引起碱基或磷酸基的烷基化,甚至可引起邻近碱基的交联。
(3)DNA加合剂:如苯并芘,在体内代谢后生成四羟苯并芘,与嘌呤共价结合引起损伤。
(4)碱基类似物:如5-FU,6-MP等,可掺入到DNA分子中引起损伤或突变。
(5)断链剂:如过氧化物,含巯基化合物等,可引起DNA链的断裂。DNA突变的类型:
1.点突变:转换——相同类型碱基的取代。颠换——不同类型碱基的取代。插入——增加一个碱基。缺失——减少一个碱基。
2.复突变:插入——增加一段顺序。缺失——减少一段顺序。倒位——一段碱基顺序发生颠倒。易位——一段碱基顺序的位置发生改变。重组——一段碱基顺序与另一段碱基顺序发生交换。 |
