黄骅电子束蒸发镀膜机|全自动高真空镀膜仪Q150GB|厂家优质批发

产品简介:分子泵超高分辨镀膜，放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒，适用于现阶段超高分辨场发射或双束电镜使用如FEI  Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; 7600F  7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品，在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤，对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得208HR拥有广泛多种镀层靶材选择 全自动化设计自动的换气与泄气功能，溅射电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制保证了均匀一致的膜厚，和的导电喷镀效果。 超高精度膜厚监控设计使用可选MTM-20全自动高分辨膜厚监控仪可优化设计镀膜条件达到0.1nm膜厚可控效果 多用途样品托设计独立的旋转，水平和倾斜 3轴移动设计优化了多样品以及不规则样品的均匀一直镀膜?可变的样品室几何设计为了优化镀层结构样品室几何设计可用于调整喷镀速度从1.0纳米每秒到0.002纳米每秒 广泛的操作气体压力独立的电压，电流以及压力回路控制系统允许可操作氩气压力从0.2-0.005mbar真空度 紧凑型时尚桌面式设计节能，紧凑设计消除了对于楼层空间要求，水要求和专业电气连接要求镀膜不同多样样品超高分辨208HR镀膜系统现在针对喷镀不同电镜样品提供了理想的解决方案。为了减小喷镀晶粒尺寸影响，208HR提供一套全系列的镀膜靶材材料和前所未有的膜厚镀层控制条件。为了更小优化充电效果，208HR的特殊样品台设计和大范围的操作压力提供了高精度的镀膜一致性和统一性。 高低样品室的配置也提供了更为方便的工作距离调整。
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型号:JX163574高精度镀膜仪208HR	型号:JX163578电子束蒸发镀膜EBES	型号:JX163565电镜专用高真空镀膜仪208HR

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型号:JX163574高精度镀膜仪208HR


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镀膜机
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高精度镀膜仪208HR
型号:JX163578电子束蒸发镀膜EBES


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镀膜机
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电子束蒸发镀膜EBES
型号:JX163565电镜专用高真空镀膜仪208HR

分子泵超高分辨镀膜，放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒，适用于现阶段超高分辨场发射或双束电镜使用如FEI  Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; 7600F  7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga;

专利磁控冷态喷镀

专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品，在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤，对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合

广泛的镀层靶材选择

特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得208HR拥有广泛多种镀层靶材选择

 全自动化设计

自动的换气与泄气功能，溅射电流和电压通过磁控头的传感线监控，蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制保证了均匀一致的膜厚，和的导电喷镀效果。

 超高精度膜厚监控设计

使用可选MTM-20全自动高分辨膜厚监控仪可优化设计镀膜条件达到0.1nm膜厚可控效果

 多用途样品托设计

独立的旋转，水平和倾斜 3轴移动设计优化了多样品以及不规则样品的均匀一直镀膜

?可变的样品室几何设计

为了优化镀层结构样品室几何设计可用于调整喷镀速度从1.0纳米每秒到0.002纳米每秒

 广泛的操作气体压力

独立的电压，电流以及压力回路控制系统允许可操作氩气压力从0.2-0.005mbar真空度

 紧凑型时尚桌面式设计

节能，紧凑设计消除了对于楼层空间要求，水要求和专业电气连接要求

镀膜不同多样样品

超高分辨208HR镀膜系统现在针对喷镀不同电镜样品提供了理想的解决方案。为了减小喷镀晶粒尺寸影响，208HR提供一套全系列的镀膜靶材材料和前所未有的膜厚镀层控制条件。为了更小优化充电效果，208HR的特殊样品台设计和大范围的操作压力提供了高精度的镀膜一致性和统一性。 高低样品室的配置也提供了更为方便的工作距离调整。

栏目页面:http://www.runlian365.com/product/2286.html
镀膜机
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-163565.html
电镜专用高真空镀膜仪208HR


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