无尘烘箱,无尘固化烤箱用于高精度硅上薄膜电阻制造过程中坚膜工艺。也用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤。
无尘烘箱,无尘固化烤箱技术参数
1、 无尘等级:Class 100;
2、 温度均匀度:±2℃;
3、 温度波动度:±0.5℃(空载);
4、 温控精度:±0.1℃;
5、 温度范围:RT+10-200/300℃;
6、 升温速率:≥8℃/min(可修改);
7、 内腔材质:SUS304#镜面不锈钢;
8、 外箱材质:优质冷轧板喷塑或SUS304#不锈钢;
9、 密封条:耐高温氟橡胶密封条;
10、氮气装置:可调式浮子流量计;
11、安全装置:漏电保护,超温保护,三色提示灯等。
无尘烘箱,无尘固化烤箱概述
无尘烤箱用于高精度硅上薄膜电阻制造过程中坚膜工艺。也用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤。
无氧化烤箱,高温无氧化烤箱概述
无氧化烤箱应用于精密电子元件、PI、BCB胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求,形成高温、低氧(无氧)、洁净环境,特别适合半导体制造、COB封装、YL卫生、柔性线路板印刷、精密模具煺火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求,广泛应用于电子产品、五金制品、YL卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等行业。
无氧化烤箱,高温无氧化烤箱技术参数
Ø 内部尺寸:600*700*800mm(深*宽*高)
Ø 材质:外箱采用优质冷轧板喷塑,内箱采用SUS304不锈钢
Ø 温度范围:RT+10-250℃
Ø 温度分辨率:0.1℃
Ø 温度波动度:<±1℃
Ø 温度均匀度:≤±1.5%
Ø 升温速率:5℃/min,(空箱测试)
Ø 降温时间:可满足180℃-60℃,降温4℃/min(空箱测试)
Ø 电源:380V 50HZ ,6KW
Ø 计时功能:具有独立的计时器,计时开关,计时报警器
Ø 氧含量
高温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量
低温状态氧含量:≤ 50ppm +气源氧含量
Ø 氮气控制:流量计节氮系统,无氧、低氧环境下节省氮气消耗量
Ø 鼓风装置:采用大功率耐高温长轴马达,大口径不锈钢涡轮扇叶,可在高温环境下长期稳定工作
Ø 氮气净化系统:微型油水尘埃过滤组mini fulter,可对氮气油水、0.1μm颗粒进行过虑