. 低价格,便携式及灵巧的操作台面设计;· 在很小的尺寸范围内,Z多可测量多达5层的薄膜厚度及折射率;· 在毫秒的时间内,可以获得反射率、传输率和吸收光谱等一些参数 · 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数;· 系统配备大量的光学常数数据及数据库· 对于每个被测薄膜样品,用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型(EMA)测量分析;· 系统集合了可视化、光谱测量、仿真、薄膜厚度测量等功能于一体;
系统配置:
- 型号:MSP100RTM
- 探测器:2048像素的CCD阵列
- 光源:高功率的深紫外-可见光光源
- 光传送方式:光纤
- 自动的台架平台:特殊处理的铝合金操作平台,能够在5”×3”的距离上移动,并且有着1μm的分辨率,程序控制
- 物镜有着长焦点距离:4×,10×,15×(DUV),50×
- 通讯接口:USB的通讯接口与计算机相连
- 测量类型:反射/透射光谱、薄膜厚度/反射光谱和特性参数
- 计算机硬件:英特儿酷睿2双核处理器,200G硬盘、DVD刻录机,19”LCD显示器
- 电源:110–240V AC/50-60Hz,3A
- 尺寸:16’x16’x18’ (操作桌面设置)
- 重量:120磅总重
- 保修:一年的整机及零备件保修
基本参数:
- 波长范围:250nm到1000 nm
- 波长分辨率: 1nm
- 光斑尺寸:100µm (4x), 40µm (10x), 30µm (15x), 8µm (50x)
- 基片尺寸:Z多可至20mm厚
- 测量厚度范围: 20Å 到25 µm
- 测量时间:Z快2毫秒
- 精确度*:优于0.5%(通过使用相同的光学常数,让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较)
- 重复性误差*:小于2 Ǻ
应用领域:
- 半导体制造(PR,Oxide, Nitride..)
- 液晶显示(ITO,PR,Cell gap... ..)
- 医学,生物薄膜及材料领域等
- 油墨,矿物学,颜料,调色剂等
- 医药及医药中间设备等
- 光学涂层,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
- 半导体化合物
- 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
- 非晶体,纳米材料和结晶硅
产品可选项:
- 波长可扩展到远深紫外光或者近红外光范围
- 高功率的深紫外光用于小斑点测量
- 可根据客户的特殊需求来定制
- 在动态实验研究时,可根据需要对平台进行加热或致冷
- 可选择的平台尺寸Z多可测量300mm大小尺寸的样品
- 更高的波长范围的分辨率可低至0.1nm
- 各种滤光片可供各种特殊的需求
- 可添加应用于荧光测量的附件
- 可添加用于拉曼应用的附件
- 可添加用于偏光应用的附件