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    EDC-650-23 湿法刻蚀机EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

    产品信息

    湿法刻蚀机EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X湿法刻蚀又称为湿化学刻蚀法。它主要是借助刻蚀剂与待刻材料之间的化学反应将待刻膜层溶解，以达到刻蚀的目的。湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准备、清洗等不涉及图形的环节。

    湿法刻蚀机EDC-650-8/EDC-650-15/EDC-650-X

    适用工艺（包括但不限于下述湿法制程）

    光刻胶显影（KrF/ArF）

    SU8厚胶显影

    显影后清洗

    PostCMP清洗

    光罩去胶清洗

    光刻胶去除

    金属Lift-off处理

    刻蚀微刻蚀处理

    适用基底的尺寸范围

    型号

    可满足尺寸范围

    EDC-650-23

    小于或等于  6英寸（150mm）直径圆片或5x5英寸（125mm）边长方片

    EDC-650-8

    小于或等于  8英寸（200mm）直径圆片或7x7英寸（175mm）边长方片

    EDC-650-15

    小于或等于12英寸（300mm）直径圆片或9x9英寸（225mm）边长方片

    EDC-650-X

    可根据用户特殊要求订制设备

     

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    信息说明

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