SiO2又称硅石。根据分子结构，分为晶体硅和非晶体硅。晶体硅在自然界分布很广，如石英、石英砂等。白色或无色，含铁量较高的是淡黄色。密度2.2 ～2.66，熔点1670℃（鳞石英）、1710℃（方石英），沸点2230℃，相对介电常数为3.9，不溶于水。非晶体硅如气凝胶，无固定熔点，密度3g/m³，导热系数0.013W/(m·K)，易溶于水。微溶于一般的酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用。用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅等。。
彼奥德PCA-1200科研专用化学吸附仪，准确的脉冲定量，高精度耐腐蚀的TCD检测器、质量流量计，确保数据准确性和数据稳定性。多段程序控温，更合理的完成程序升温反应和等温反应。贯通式强冷系统，确保温度准确性和降温升温速率。
功能展示：
①程序温度反应：TPD、TPR、TPO、 TPRx
②应用功能：储氧量分析、催化剂等功能材料的表面金属分散度、活性金属面积、利用脉冲化学吸附定量酸性强度及碱性强度（脉冲滴定）、等温反应；即酸（碱）性ZX数量、酸（碱）度、氢在金属表面的吸附、一氧化碳在金属表面的吸附、氧在金属表面的吸附、氮在金属表面的吸附、乙烯和乙炔在金属表面的吸附、NH3的程序升温脱附。
应用保障配置参数：
1、VICI两位六通阀，用于脉冲滴定法分析金属面积和分散度测定（脉冲定量体积1-3ml可选）
2、配置蒸汽发生器可进行惰性载气中液体蒸汽包括有机蒸汽（例如吡啶、苯）的吸附
3、蒸汽冷阱设于样品管和检测器之间，以去除杂质气；物理吸附冷阱一般用液氮。
4、四臂PT镀金TCD 检测器，具有极强的抗氧化和抗氨腐蚀的能力，稳定的电流控制保证了基线稳定性和重现性信号
5、不锈钢管路具有Z大化的化学适应性是适用于广泛的气体。
6、标准高温石英样品池可内置热电偶，提供准确的样品温度测量，并做溢流道设计，可用于各种尺寸的颗粒和粉体（在一定压力条件下选用不锈钢反应器）
7、可连接质谱仪、色谱仪、红外或其他检测器; 色谱/质谱连接方式： 3 种(a: 在样品管后端; b: 在冷阱之后，检测器之前; c: 在检测器之后)
8、操作软件基于Windows操作系统开发，软件简单易学，使用方便。软件支持鼠标点击操作，打印机和远程控制，直观显示每个流程的原理图直观显示在屏幕上,能够直观了操作流程可进展；有峰编辑软件，提供峰选择、编辑、积分和数据平滑处理，并能手动标注，数据能够导入EXCEL或者WORD、PNG等。
9、安控系统：高精度可燃气体预警
脉冲滴定数据图
技术参数：
载气：N2,Ar,He,H2等
反应气：H2, O2, CO, NO, SO2, NH3，H2S等
气体入口：6个（可扩展至10个，多路载气、多路反应气；混合器内置）
液路入口：1个（可选配蒸汽发生装置）
温度控制(管路、蒸汽发生器、炉子、TCD温度均数字可控)
炉子温度：室温~1200℃（加冷阱可以扩展到-100~1200℃）
炉子精度：0.2%FS
升温速率：0~100℃/min（可实现分段控温）
0~500℃（升温速率0~100℃）
500℃-750℃（升温速率0~50℃）
750℃-1000℃（升温速率0~30℃）
1000℃-1200℃（升温速率0~20℃）
蒸汽发生器：0~300℃（可选，温度上限可设置，防止过热）
TCD温度：0~300℃（可设置温度上限，防止过热）
TCD恒温精度：0.1%FS
管路防冷凝：0~250℃.确保仪器不锈钢管线、阀门和TCD探测器无“冷点”（可选，温度上限可设置，防止过热）
流量控制：质量流量控制器，流量范围 0~100sccm（ml/min）
气路控制系统：高精度十二位一体电磁阀控制模块
分析压力：常压---8MPa（可选）精度：±0.3% Of Reading
样品管：高温化学吸附石英样品管或316L不锈钢反应器
空气制冷：可升降电炉+贯穿式强风冷系统，可快速降温，从Z高温到100℃ 冷却时间< 25 分钟
重现性：0.5%
样品热电偶：在样品管内或反应器内
：刘映
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