活动范围 300mm x 300mm 测量范围 100?~ 35?(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40?/20?,4?(option) 测量速度 1~2 sec./site (fitting time) 应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure 选择 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table 接物镜转换器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附带照明 12v 100W Halogen Lamp
主要特点
·标准模型 ·工业规格 ·自动的X-Y平台 ·自动调焦 ·半导体和裂变产物探测
尺寸 500 x 750 x 650 mm 重量 80Kg 类型 自动 测量型号 ≤ 4" 测量方法 无连接的 测量原理 反射计 特征