PLD脉冲激光沉积系统（激光分子束外延）

激光脉冲镀膜(PLD)是一种复杂材料沉积的有效方法
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) 是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统— 基于ZY经验的创新设计
Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得ZJ薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。
• Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的ZD均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
• 为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
• 我们的研究表明靶和基片的距离是获得ZJ薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行ZD的控制。

技术参数：

• 所有的系统都可以按完整PLD 实验室的方式获得，包括248nm 激光器（准分子、固体等），激体柜，激光
和光学器件台，光学器件包。
• 带* 的项目均可客户化。
• 上述技术指标如有变更，恕不另行通知，详情见具体报价描述或者咨询销售工程师。

激光分子束外延(Laser MBE )
激光MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。
正确的设计是成功使用RHEED 和PLD 的重要因数
RHEED 通常在高真空（<10-6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要的，
维持RHEED 枪的工作压力，同时保持500 mTorr 的PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 的激光MBE 系统可以为用户提供在压力达到500 mTorr 时所需的单分子层控制。