昆山国华等离子清洗机设备使用什么气体
等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的”活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。
等离子体按照气体来分可分为以下两种：
活泼气体和不活泼气体等离子体：根据产生等离子体时应用气体的化学性质不同， 可分为不活泼气体等离子体和活泼气体等离子体两类，不活泼气体如氩气（Ar）、氮气 （N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）和空气等，活泼气体如氧气（O2）、氢气（H2） 等，不同类型的气体在清洗过程中的反应机理是不同的，活泼气体的等离子体具有更强的化学反应活性。不同特性的气体，它们用于清洗的污染物也须有不同选择。 当一种气体渗入一种或多种额外气体时，这些元素的混合气体组合，能产生我们所希望的蚀刻与清洗效果。借助等离子电浆中的离子或高活性原子，将表面污染物撞离或 形成挥发性气体，再经由真空系统带走，达到表面清洁的目的。等离子体形成过程，在高频电场中处于低气压状态的氧气、氮气、甲烷、水蒸气等 气体分子在辉光放电的情况下，可以分解出加速运动的原子和分子。这样产生的电子在 电场中加速时会获得高能量，并与周围的分子或原子发生碰撞，结果使分子和原子中又 激发出电子，而本身又处于激发状态或离子状态，这时物质存在的状态即为等离子体状 态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外，还存在受到能量激励状态的电中性的 原子或原子团（又称自由基），以及等离子体发射出的光线，其中波的长短、能量的高低在等离子体与物质表面相互作用时有着重要作用。
氮气作为一种不活泼气体，在等离子体清洗的过程中，主要作为非反应性气体，氮等离子处理能提高材料的硬度和耐磨性。在某些情况下氮气也能作为一种反应性气体，形成氨的化合物。更多的情况下等离子清洗机中使用氮气还是用作一种非反应性气体。
等离子清洗机由于其自身的特点在很多产品生产的过程中都有一席用武之地。在等离子清洗机工作清清洗的过程中，需要配合着不同的气体，才能将等离子清洗机的清洗效果达到好。
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按气体分成：最多使用的气体之一就是惰性气体氩气（Ar），真空腔清洗过程中配合氩气（Ar）往往可以有效得去除表面纳米级污染物。经常应用在引线键合，芯片粘接铜引线框架，PBGA等工艺中。
如果想增强腐蚀效果，就请通入氧气（O2）。通过配合氧气（O2）在真空腔清洗，可有效的去除有机污染昆山国华等离子清洗机设备使用什么气体物，比如光刻胶等。通入氧气（O2）比较多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工艺。
还有一些比较难去除的氧化物可利用氢气（H2）配合清洗，条件是要在密闭性非常好的真空情况下使用。还有一些特殊气体类似于四氟化碳（CF4），六氟化硫（SF6）等，蚀刻和去除有机物的效果会更加显著。但这些气体的使用前提是要有JD耐腐蚀气路和腔体结构，另外自己要戴好防护罩和手套才能工作。
ZH要说的一种常用气体就是氮气（N2）。这种气体主要是配合在线式等离子对材料表面活化和改性的应用。当然真空环境下也可以使用。氮气（N2）是提高材料表面侵润性的不二选择。
现在等离子清洗机通常为2路气体，有时候我们会尝试让气体去组合比例配合清洗，来达到不一样的效果！
