XTC/3薄膜沉积控制器技术先进,经济实惠,可对单层或多层薄膜进行速率控制
立即了解用于单层和多层过程的薄膜沉积控制器的详细信息。XTC/3 带有,提供跳模预防功能,确保获得始终如一的质量。使用 XTC/3 薄膜沉积控制器,您可以高度精确地控制沉积速率和厚度,获得几乎适用于所有层的容量,而且控制器安装简便,具有极高可靠性,可确保高生产力。XTC/3薄膜沉积控制器是薄膜沉积控制领域的*,现在提供的这款仪器具有极低的拥有成本,可为客户带来KQ的价值。
无论您需要的是生产、研发还是开发方面的控制,您都将发现 INFICON XTC/3 能够*满足您的需求。
INFICON 支持
无论您身在何处,都可获得快速回复、贴心服务以及最长运行时间。INFICON 一家在设有本地服务与技术支持ZX的薄膜沉积控制器制造商,其办事处遍布。
- 提供有单层和多层型号
- 技术可避免跳模引起的薄膜厚度误差
- 支持 Crystal 12®、Crystal Six® 和双传感器自动晶体转换,从而ZD化生产力
- XTC/3M 多层型号最多支持 99 个过程、999 层薄膜、32 种薄膜材料、2 个传感器和两种源
- XTC/3S 单层型号最多支持 9 种薄膜、2 个传感器和两种源
- 易于阅读的 TFT LCD 图形显示器
- 可以为薄膜和过程分配的描述性名称,以便于检索
- 提供以太网连接
- 独立式(不需要计算机)或便于 PC 操作的可选 Windows® 软件
- 插拔式替换 INFICON XTC/2 控制器(受限于 XTC/2 功能和命令集)