考夫曼霍尔离子源

上海伯东考夫曼霍尔离子源 eH 系列简介
上海伯东为美国考夫曼公司离子源ZG总代理,KRI 考夫曼霍尔离子源 eH 系列特点：无栅极离子源,高离子浓度低离子能量,离子源散射角度45度,离子源涵盖面积广,可依据客户实际需要选装离子源中和器或灯丝,可以通过电脑远程控制,霍尔离子源主要型号包含：eH 200 eH 400 eH 1000 eH 2000 eH 3000 eHlinear 系列,上海伯东依据客户实际应用选型离子源并提供完善的售后维修服务

KRI 考夫曼霍尔离子源主要应用

离子辅助镀(IBAD)

In-Situ Substrate Preclean (PC)

Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

Direct Deposition (DD)

离子刻蚀 (IBE)

光学镀膜
客户现场图片：
1.国内某大学天文学系小尺寸刻蚀设备 选用伯东公司考夫曼霍尔离子源 eH400HC

2.国内某光学公司选用伯东公司考夫曼霍尔离子源 eH5000F 应用于大尺寸之光学镀膜机

霍尔离子源 eH 系列主要优点:

• 高离子浓度 (High density), 低能量(Low energy)
• 离子束涵盖面积广 (high ion beam sharp)               
• 镀膜均匀性佳
• 提高镀膜品质
• 模块化设计, 保养快速方便
• 增加光学膜后折射率 (Optical index)      
• 全自动控制设计, 超做简易
• 低耗材成本,安装简易
   

伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源离子枪

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