仪器介绍
TX2000是WY的集全反射和传统（45º）衍射几何于一体的能量型X射线荧光分析光谱仪。
可检测从Na到Pu所有元素含量，具有优异的探测限（ppt或pg），与其它具有类
似元素探测限的仪器相比，拥有无基体、无记忆效应，非破坏性分析，运行成本
低等技术优势。X射线衍射系列产品则能满足多方面的测试需求，从常规的定性
定量分析到残余应力分析、薄膜、织构、非常规环境分析、残余奥氏体定量、微
晶尺寸/晶格应变和结晶度计算。
技术参数
X射线发生器 输出功率 3kW
输出稳定性 <0.01%（能量供给波动10％）
输出电压 60kV
输出电流 60mA
电压步进宽度 0.1kV
电流步进宽度 0.1mA
PC机控制模块系列 X射线开关、电压电流设定、快门
安全装置 门自锁机制、紧急制动钮
重量 45kg
尺寸 宽 48.3cm, 高 22cm, 进深 63cm
X射线管 类型 玻璃，Mo/W阳极靶，长细焦
焦斑 0.4×12mm
输出功率 2.5kW
多层膜单色器 类型 Si/W
反射率 80％（WLα/Lβ/ Mo Kα）
样品自动转换器 样品槽 TXRF12个－EDXRF（45º）1个
探测器 类型 Si-Li
有效面积 20mm2-(10mm2、30mm2、80mm2可选)
厚度 3.5mm
能量分辨率 <137eV（Mn Kα，1000cps）
脉冲容量 >10,000cps
UHV杜瓦瓶 类型 带液氮水平控制单元的不锈钢stell
低温恒温器容积 3.8L
挥发率 0.6升/天
尺寸（直径×高） 200×400mm
重量（不带液氮） 5kg
前置放大器 类型 脉冲设置
光谱放大器 类型 自动过虑（高斯形）
可选时间常数 4
可选放大范围 4
零峰生成器、自动基线修复器、脉冲堆积排斥器，所有设定由PC机控制
ADC 类型 连续逼近
通道数 4096
交换时间 10μs
处理单元 计算机型号 版PC 机
控制部件 X射线发生器、管罩、单色器
操作系统 微软Windows
基本数据处理 X射线发生器载荷设置
多样品定位
主要特点
TX 2000型光谱仪的主要特性：
●TXRF和EDXRF（传统45º几何）光谱集于一体。
●基于新颖的软件，采用双阳极Mo/W X射线管，自动选择初始光束（Mo Kα、WLα/Lβ和轫致辐射33keV），用高反射率（可达80％）的（WLα/Lβ/ Mo Kα）多层膜选择所需能量。也可以选用其他X射线管并对你需要的能量进行单色化处理。
●3.8升UHV（Si(Li)20mm2探测器）高分辨探测器<137eV（5.89keV下的Mn Kα辐射），超薄、高抗腐蚀窗（8mm 铍窗）。
●样品与探测器（安装于样品垂直平面轴上）之间的距离已小到限度。由于入射束和反射束之间的角度很大，探测器完全处于入射光束之外。
●对于超过50种的元素，仪器检出限低于10pg。
●氦气装置帮助改进轻元素的检出限。
●光谱仪是完全自动化的，通过PC 机控制不同能量下全反射的不同条件，采用步进驱动mowing单色器和管罩以及微软Windows软件。
●TXRFACQ32收集程序，32位微软Windows可以实现以下功能：X射线发生器的载荷设定、多样品的定位、计算链参数设定、辐射线选择、ZX步骤、K、L和M标记、时间或计数选择、两种衍射几何（TXRF和EDXRF）的数据采集。
●作为Windows 32位版的改进，EDXRF32包括：面积计算的Z小二乘Marquardt优化过程（光谱分析）、自动/手动寻峰功能、手动或自动能量校正、全反射理论和实验敏感曲线的内标定量、各种类型的背底修正。
对于45º角几何，可用以下方法：
发射/透射（用于粉末/轻基体样品）。
暗基体评价的非相干和相干辐射关系的基础参数。
基础参数（对于合金）。
薄膜。
基体效应的半经验修正。
用于计算的一套工具：基础参数、荧光场、边界跳跃、探测器效率、不同的交叉部位（相干和非相干）、自动生成因子、非相干散射函数、元素线和比率、化学计量。
资料下载：
产品样本
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