微波等离子清洗机PLASMA-PREEN_详细资料

产品信息 保修期： 12个月现货状态： 6-8周供应商： MYCRO 数量： 100 规格： 8*6*2 PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。 产品特色 负载循环控制，模拟功率控制 处理机存储 水冷底座 减少污水排放 安全保护设计 操作简便维护方便 应用范围： 混合电路板制造中基片的清洗 打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性 锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗 清洗半导体元器件 光刻胶去胶 上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备 镀膜前对光学器件清洗 清洗石英、蓝宝石及其它材料 适用工艺： 打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫； 去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物； 清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件； 塑胶密封剂去除--失效模式分析 型号 PPC862 PPC973 反应舱尺寸(H*W*D) 203mm x 152 mm x 50mm 229 x 178 x 76 mm 冷却面(H*W) 203 mm x 152 mm 229 mm x 178 mm 反应舱 方形舱体 方形舱体 反应舱材质 派热克斯玻璃&铝材 派热克斯玻璃&铝材 水冷式 水冷装置 水冷装置 负载比 10%至连续性 10%至连续性 标准流量 5cu-ft./Hr.@STP 5cu-ft./Hr.@STP 频率(GHz) 2.45 GHz 2.45 GHz 功率(Watts) 100至750之间调节 100至750之间调节 重量 (Kg) 29.5kg 38.5kg 真空泵系统 抽气速率3.8cfm/分 抽气速率3.8cfm/分 产品相关关键字：微波等离子清洗机 2.45GHz等离子清洗机等离子去胶机等离子清洗机等离子刻蚀机

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型号	PPC862	PPC973
反应舱尺寸(HWD)	203mm x 152 mm x 50mm	229 x 178 x 76 mm
冷却面(H*W)	203 mm x 152 mm	229 mm x 178 mm
反应舱	方形舱体	方形舱体
反应舱材质	派热克斯玻璃&铝材	派热克斯玻璃&铝材
水冷式	水冷装置	水冷装置
负载比	10%至连续性	10%至连续性
标准流量	5cu-ft./Hr.@STP	5cu-ft./Hr.@STP
频率(GHz)	2.45 GHz	2.45 GHz
功率(Watts)	100至750之间调节	100至750之间调节
重量 (Kg)	29.5kg	38.5kg
真空泵系统	抽气速率3.8cfm/分	抽气速率3.8cfm/分