适用于任何材料样品,获得高质量平整表面。
适用于SEM微区分析(EDS, WDS, EBSD, CL) 及AFM分析
新离子束原理(EM TIC3X )
三个离子束从不同的角度同时轰击样品
样品固定不动
切割深度 >1mm
切割宽度 > 4mm!
传统离子束原理 (W. Hauffe, 1976)
一个离子束
样品部分被遮挡
样品需要摆动
样品未被遮挡的区域被离子束轰击
徕卡TIC3X三离子束切割抛光仪的技术特点
1、便捷操作:独特样品转载对中设计,仪器观察窗口标配徕卡原装高级体视显微镜,方便样品装载和实时观测加工过程!在离子束切割过程中,可不破真空调整样品。
2、导热性能优异:截面切割时,三把宽束离子枪加工,离子束束斑宽,对样品冲击更弱,可控制样品加工区域在70摄氏度以下。
3、超大样品装载尺寸和加工面积:徕卡TIC3X截面切割的尺寸可达4mm x1 mm,一次切割宽度是竞争对手产品的3倍左右;平面抛光区域直径25mm,总抛光面积是竞争对手产品的6倍左右。
4、离子束损伤小:采用三把宽束离子枪切割,样品加工表面离子损伤小,极少出现离子划痕现象。
5、做铁磁性样品不会污染离子枪:TIC3X的离子枪采用鞍型场枪结构,内部不含磁铁,不会吸引铁磁性样品抛光碎屑而造成频繁短路情况。