TF1200 PECVD等离子增强化学气相沉积系统

产品名称：PECVD等离子增强化学气相沉积系统
产品型号：TF1200
PECVD等离子增强化学气相沉积系统TF1200特征描述: 
此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常简单实用，工艺重复性好，对于石墨烯生长工艺非常合适，也同样适用于要求快速升降温的CVD实验。
TF1200主要功能和特点：
1、利用辉光放电产生等离子体电子激活气相；
2、提高了气相反应的沉积速率、成膜质量；
3、可通过调整射频电源频率来控制沉积速率；
4、能广泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。
TF1200:
1、实验ZX：提供免费实验服务（特殊材料实验除外），帮助客户了解电炉设备及实验物品的性能等参数。(新用户限免费实验1次，老用户终身免费)。
2、技术咨询：免费为客户提供电炉设备与实验材料相关的技术咨询、常规技术服务等，设备配件更换，仅收成本费。
3、非标订制：可根据实际客户需要订制炉膛尺寸，配置相应的对应规格配件。