射频磁控溅射镀膜装置 型号:DH-RM-1
射频磁控溅射镀膜装置 主要用途:本设备主要用于大专院校研究和开发纳米级单层膜;如各种硬质膜、金属膜;也可以是非金属、化合物等薄膜材料。可以进行直接溅射,亦可以实现反应溅射。
射频磁控溅射镀膜装置 主要特点:结构简捷、操作简便,真空度维护高,安全可靠。
镀膜机应安装在干净无尘埃、无腐蚀性气体的室内,并具备清洁水源、及220V的稳定电压等条件的地方。
1、地面的基本水平度要经过调整,不得高低不平;
2、环境温度:10℃~30℃;
3、相对湿度:不大于75%;
4、耗水量(进水温度≤25℃,2.5Kg≥水压≥1.5Kg):约0.2T/h;
5、水质要求:
矽酸硬度<6度,PH值:7-8,电导率:200us/cm,沉积率:<200mg/L。
6、电压: 220V,50HZ,
电压波动范围: 198~231V;
频率波动范围:49~51Hz;
7、水压:0.3~1Kg/cm2或0.03~0.1MPa/cm2;
8、充入气体纯度99.9%或以上;
9、镀膜用耗材纯度99.9%或以上。
北京恒奥德仪器仪表有限公司
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QQ : 1968156761 1169121880 236261341设备规格参数
1.1、溅射处理室:
1、钟罩:内径225mm×高度260mm;
2、试样台:直径80mm(Z大);
3、试样旋转:静止;
4、挡板:手动;
5、衬底加热器:不锈钢加热器(DC24V);
6、衬底温度范围:室温~200℃;
7、衬底可调距离:20mm~60mm;
8、溅射室极限真空:0.5Pa
1.2、真空系统:
1、抽气系统:由机械泵组成的一级真空系统;抽气速率:4升/S
2、真空检测:电阻真空计、电阻规;
3、常用真空度:1~20Pa
4、操作:手动
1.3、溅射电源:
1、射频电源:频率13.560MHZ,功率:500W,用表指示;
2、阻抗匹配器范围:(2.7~45)Ω-j(0~70)Ω;
3、供电:AC 220V;
4、冷却方式:风冷;
1.4、 磁控靶:
1、靶材直径:Ф50mm、 一个永磁靶;
2、靶材厚度:3~6mm;
1.5、进气系统:2路转子流量计进气,
1.6、电源要求:AC 220V 50Hz 10A
1.7、气体要求:氩气--纯度99.9%(样品有特殊要求时使用高纯)
1.8、冷却要求:靶体水冷,溅射电源风冷
1.9、体积重量:体积:L550mm×W680mm×H1480mm;约120kg